טונגסטן הקספלואוריד (WF6) מופקד על פני הרקיק באמצעות תהליך CVD, ממלא את תעלות חיבור המתכת ויוצר את חיבור המתכת בין השכבות.
בוא נדבר קודם על פלזמה.פלזמה היא סוג של חומר המורכב בעיקר מאלקטרונים חופשיים ויונים טעונים.הוא קיים באופן נרחב ביקום ונחשב לעתים קרובות כמצב הרביעי של החומר.זה נקרא מצב הפלזמה, הנקרא גם "פלזמה".לפלזמה מוליכות חשמלית גבוהה ויש לה אפקט צימוד חזק עם שדה אלקטרומגנטי.זהו גז מיונן חלקית, המורכב מאלקטרונים, יונים, רדיקלים חופשיים, חלקיקים ניטרליים ופוטונים.הפלזמה עצמה היא תערובת ניטרלית חשמלית המכילה חלקיקים פעילים פיזית וכימית.
ההסבר הפשוט הוא שתחת פעולת אנרגיה גבוהה, המולקולה תתגבר על כוח ואן דר ואלס, כוח הקשר הכימי וכוח קולומב, ותציג צורה של חשמל נייטרלי בכללותו.יחד עם זאת, האנרגיה הגבוהה שמעניק החוץ מתגברת על שלושת הכוחות הנ"ל.תפקוד, אלקטרונים ויונים מציגים מצב חופשי, שניתן להשתמש בו באופן מלאכותי תחת אפנון של שדה מגנטי, כגון תהליך תחריט מוליכים למחצה, תהליך CVD, תהליך PVD ו-IMP.
מהי אנרגיה גבוהה?בתיאוריה, ניתן להשתמש ב-RF גם בטמפרטורה גבוהה וגם בתדר גבוה.באופן כללי, כמעט בלתי אפשרי להשיג טמפרטורה גבוהה.דרישת הטמפרטורה הזו גבוהה מדי ועשויה להיות קרובה לטמפרטורת השמש.זה בעצם בלתי אפשרי להשיג בתהליך.לכן, התעשייה משתמשת בדרך כלל ב-RF בתדר גבוה כדי להשיג זאת.RF פלזמה יכול להגיע עד ל-13MHz+.
טונגסטן הקספלואוריד עובר פלזמה תחת פעולת שדה חשמלי, ולאחר מכן מושקע באדים על ידי שדה מגנטי.אטומי W דומים לנוצות אווז החורף ונופלים לקרקע תחת פעולת כוח הכבידה.לאט לאט, אטומי W מופקדים לתוך החורים העוברים, ולבסוף מתמלאים במלואם דרך החורים כדי ליצור חיבורי מתכת.האם בנוסף להפקדת אטומי W בחורים העוברים, הם יופקדו גם על פני הוופר?כן בהחלט.באופן כללי, אתה יכול להשתמש בתהליך W-CMP, שהוא מה שאנו מכנים תהליך השחזה המכני להסרה.זה דומה לשימוש במטאטא כדי לטאטא את הרצפה לאחר שלג כבד.השלג על הקרקע נסחף, אבל השלג בחור על הקרקע יישאר.למטה, בערך אותו דבר.
זמן פרסום: 24 בדצמבר 2021
